关于X射线光电子能谱分析的应用和原理，我们做出如下介绍

　　X射线光电子能谱分析技术，是一种表面分析方法， 使用X射线去辐射样品，使原子或分子的内层电子或价电子受激发射出来，被光子激发出来的电子称为光电子，可以测量光电子的能量和数量，从而获得待测物组成。XPS主要应用是测定电子的结合能来鉴定样品表面的化学性质及组成的分析，其特点在光电子来自表面10nm以内，仅带出表面的化学信息，具有分析区域小、分析深度浅和不破坏样品的特点，广泛应用于金属、无机材料、催化剂、聚合物、涂层材料矿石等各种材料的研究，以及腐蚀、摩擦、润滑、粘接、催化、包覆、氧化等过程的研究。

　　它的主要应用：

　　1、元素的定性分析。可以根据能谱图中出现的特征谱线的位置鉴定除H、He以外的所有元素；

　　2、元素的定量分析。根据能谱图光电子谱线强度（光电子峰的面积）反映原子的含量或相对浓度；

　　3、固体表面分析。包括表面的化学组成或元素组成，原子价态，表面能态分布，测定表面电子的电子云分布和能级结构等；

　　4、化合物的结构。可以对内层电子结合能的化学位移精确测量，提供化学键和电荷分布方面的信息；

　　5、分子生物学中的应用，e.g.，利用XPS鉴定Vitamin B12中的少量的Co。

　　X射线光电子能谱分析的基本原理：

　　用X射线照射固体时，由于光电效应，原子的某一能级的电子被击出物体之外，此电子称为光电子。

　　如果X射线光子的能量为hν，电子在该能级上的结合能为Eb，射出固体后的动能为Ec，则它们之间的关系为： hν=Eb+Ec+Ws 式中Ws为功函数，它表示固体中的束缚电子除克服各别原子核对它的吸引外，还必须克服整个晶体对它的吸引才能逸出样品表面，即电子逸出表面所做的功。上式可另表示为： Eb＝hν-Ec-Ws 可见，当入射X射线能量一定后，若测出功函数和电子的动能，即可求出电子的结合能。由于只有表面处的光电子才能从固体中逸出，因而测得的电子结合能必然反应了表面化学成份的情况。这正是光电子能谱仪的基本测试原理。